隨著電子工業(yè)的發(fā)展為產業發展，電子元器件的集成度越來越高是目前主流，而體積越來越小，并且普遍采用BGA類型的封裝重要手段。因此，PCB的線路將越來越小橫向協同，層數(shù)越來越多不折不扣。減少線寬和線距是盡量利用有限的面積，增加層數(shù)是利用空間穩定性。將來的線路板的線路主流時2－3mil最深厚的底氣，或更小敢於挑戰。

    通常認(rèn)為，生產(chǎn)線路板每增加或上升一個檔次應用擴展，就必須投資一次過程中，而且投資的資金較大。換句話說建立和完善，**的線路板是由**的設(shè)備生產(chǎn)出來的特征更加明顯。然而，大規(guī)模的投資并非每個企業(yè)都負(fù)擔(dān)得起啟用，而且投資以后再做試驗收集工藝資料，試產(chǎn)都花費(fèi)大量的時間和資金。如根據(jù)本企業(yè)現(xiàn)有的情況先做試驗和試產(chǎn)活動上，然后根據(jù)實際情況及市場情況再決定是否投資達到，似乎是一種更好的方法。本文細(xì)述了在通常的設(shè)備情況下大型，可生產(chǎn)細(xì)線寬度的極限的可能性，及細(xì)線路生產(chǎn)的條件與方法。

    一般的生產(chǎn)流程可分為蓋孔酸蝕法和圖形電鍍法不可缺少，兩者各有優(yōu)缺點系列。酸蝕法得到的線路很均勻，有利于阻抗控 制市場開拓，環(huán)境污染少標準，但有個孔破則造成報廢；堿蝕生產(chǎn)控制較為容易重要意義，但線路不均勻規則製定，環(huán)境污染也大。

    首先引領，線路制作的首要是干膜表現明顯更佳，不同的干膜分辨率不同但一般都可以在曝光后顯示出2mil/2mil的線寬線距，普通的曝光機(jī)的分辨率都可以達(dá)到2mil優化服務策略，一般在此范圍內(nèi)的線寬線距都不會產(chǎn)生問題技術先進。在4mil/4mil的線寬線距或以上顯影機(jī)的噴嘴，壓力技術節能，藥水濃度關(guān)系不是很大提高，在3mil/3mil線寬線距以下，噴嘴是影響分辨率的關(guān)鍵延伸，一般應(yīng)用扇形噴嘴有很大提升空間，壓力在3BAR左右才能顯影。

    雖然曝光能量對線路有十分大的影響，但一般目前市面上使用的大部分干膜曝光范圍相當(dāng)廣認為。在12－18 級（25級曝光尺〕或7－9 級（21級曝光尺）都能分辨運行好，一般來說曝光能量低一點有利于分辨率但能量太低時空氣中的灰塵及各種雜物對其影響很大，在后面的工序會造成開路（酸蝕）或短路（堿蝕）紮實。因此同期，實際生產(chǎn)時要與暗房的潔凈度相結(jié)合，這樣根據(jù)實際情況選擇可生產(chǎn)的線路板線路*小線寬和線距可能性更大。

    顯影條件對分辨率的影響當(dāng)線路越小時影響越明顯鍛造。當(dāng)線路在4.0mil/4.0mil以上時顯影條件（速度，藥水濃度真正做到，壓力等）影響不明顯發展邏輯；線路為2.0mil/2.0/mil 時，噴嘴的形狀追求卓越，壓力對于能否正常顯影出線路起到關(guān)鍵的作用，這時的顯影速度可能明顯下降創新延展，同時藥水的濃度對線路外觀有影響性能，其可能的原因是扇形噴嘴的壓力大，在線路間距很小的情況下長效機製，沖力仍可達(dá)到干膜底部強化意識，因此可以顯影；錐形噴嘴壓力較小像一棵樹，故顯影細(xì)線路有困難協同控製。另放板的方向?qū)Ψ直媛始案赡?cè)壁有明顯的影響。

    不同的曝光機(jī)分辨率不同高效利用。目前使用的曝光機(jī)一種是風(fēng)冷體驗區，面光源，另一種是水冷品質，點光源提供了遵循。其標(biāo)稱分辨率都是4mil。但實驗表明能運用，不必做特別的調(diào)整或操作利用好，都可以做到3.0mil/3.0mil；甚至可以做到0.2mil/0.2/mil講理論；能量降低時1.5mil/1.5mil也可以分辨有望，不過這時操作要仔細(xì)，且灰塵和雜物的影響很大解決問題。此外服務效率，實驗中Mylar面和玻璃面的分辨率沒有明顯的區(qū)別。

    對于堿蝕而言生產能力，電鍍之后總是存在蘑菇效應(yīng)智慧與合力，一般只是明顯與不明顯的區(qū)分規定。如線路較大大于4.0mil/4.0mil，蘑菇效應(yīng)較小措施。

    而當(dāng)線路為2.0mil/2.0mil時影響就非常大示範推廣，干膜由于電鍍時鉛錫溢出形成蘑菇狀，干膜被夾在里面導(dǎo)致退膜十分困難。解決的方法有大大縮短；1.用脈沖電鍍使鍍層均勻；2.使用較厚的一種干膜開放要求，一般的干膜為35－38 微米較厚的干膜為50－55微米高質量，成本較高一些，此種干膜在酸蝕中使用效果較好緊密相關；3.用低電流電鍍大幅增加。但這些方法不徹底。實際上很難有十分完全的方法重要組成部分。

    因為蘑菇效應(yīng)可以使用，細(xì)線路的退膜十分麻煩。由于氫氧化鈉對鉛錫的腐蝕在2.0mil/2.0mil時會十分明顯所以可以電鍍時加厚鉛錫及降低氫氧化鈉的濃度來解決關註點。

    在堿蝕時不同的線寬速度不同廣泛認同，線路形狀不同速度也不同，如果線路板在制作的線的厚度方面沒有特殊的要求建強保護，采用0.25oz的銅箔厚度的線路板制作或?qū)?.5oz的基銅蝕去一部分服務好，電鍍銅薄一些，鉛錫加厚等都對用堿蝕做細(xì)線路有作用流動性，另噴嘴需用扇形效高化。錐形噴嘴一般只能做到4.0mil/4.0mil。

    在酸蝕時與堿蝕相同的是不同的線寬和線路形狀速度不同提高鍛煉，但一般用酸蝕時干膜容易在傳送和前面的工序中將掩孔的膜和表面的膜弄破或劃傷統籌推進，所以生產(chǎn)時需小心，用酸蝕其線路效果較堿蝕要好進行培訓，不存在蘑菇效應(yīng)側(cè)蝕較堿蝕少科普活動，另用扇形噴嘴效果明顯好于錐形噴嘴。酸蝕后線的阻抗變化小一些關鍵技術。

    在生產(chǎn)過程中逐漸完善，貼膜的速度溫度，板面的清潔度有所提升，重氮片的清潔度對合格率影響較大了解情況，對酸蝕貼膜的參數(shù)及板面的平整尤為重要；對堿蝕法治力量，曝光的清潔度很重要長期間。