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關(guān)于電路板特殊溶液管控的建議

關(guān)于電路板特殊溶液管控的建議
本文主要是電路板對活化鈀缸技術創新、化學(xué)鈀缸醒悟、金缸這些特殊溶液管控的幾點(diǎn)建議:
1.活化鈀缸的管控
在制作精細(xì)線路產(chǎn)品時,為避免出現(xiàn)滲金生產體系,需要對活化鈀缸進(jìn)行管控新模式,降低活化缸的活性,可適當(dāng)做如下調(diào)整:
(1)適當(dāng)降低活化鈀缸中鈀離子濃度高質量;
(2)控制活化缸溫度為正常工作范圍的下限溫度應用情況;
(3)適當(dāng)降低活化時間;
(4)當(dāng)活化缸中銅離子達(dá)到一定值時需要進(jìn)行更換并硝槽,以防止**產(chǎn)品的產(chǎn)生占。

2.化學(xué)鈀缸的管控
化學(xué)鍍鈀屬于自身的氧化還原體系,鍍液較為活潑成效與經驗,穩(wěn)定性較差更讓我明白了,工藝操作參數(shù)范圍較窄,控制相對困難提供了有力支撐。通過現(xiàn)場嚴(yán)格的鍍液管控和合理的工藝維護(hù)飛躍,可以得到相對穩(wěn)定的沉積速率,而設(shè)備的設(shè)計(jì)方面也是影響鍍液體系穩(wěn)定性的關(guān)鍵因素積極,穩(wěn)定的溫度大數據、合適的循環(huán)量控制、均勻的槽液流動狀態(tài)都是不可缺少的條件:
(1)當(dāng)鈀缸每次停產(chǎn)超過24小時后再次啟動時特點,需要進(jìn)行適度的拖缸以保證鈀缸達(dá)到適當(dāng)?shù)幕钚裕?/div>
(2)需要定期對鈀缸進(jìn)行速率監(jiān)控,利用原子吸收的分析方法檢測鈀缸中各物質(zhì)濃度是否處于正常狀態(tài)下落實落細;
(3)必須對經(jīng)過鎳缸的產(chǎn)品進(jìn)行監(jiān)控意見征詢,發(fā)生漏鍍的產(chǎn)品不可以進(jìn)入鈀缸;
(4)嚴(yán)格控制鈀缸溫度深入闡釋,過高的溫度會導(dǎo)致鈀的異常析出集聚;
(5)鈀缸必須每周進(jìn)行倒缸并硝槽清洗,以防止鈀的析出大大提高。

3.金缸的管控
化學(xué)浸金屬于置換反應(yīng)新的動力,當(dāng)金厚達(dá)到一定程度時反應(yīng)自然終止,普通的化學(xué)浸金易于控制調整推進,但對于金厚要求較高的產(chǎn)品為產業發展,通過置換反應(yīng)得到的金鍍層已經(jīng)無法滿足厚度的要求,必須使用還原性質(zhì)的鍍液進(jìn)行處理才能滿足客戶要求。與化學(xué)鈀一樣穩定,屬于還原體系的鍍液機製性梗阻,較難控制,需要嚴(yán)格的管控和維護(hù)才能確保其相對穩(wěn)定性廣泛關註,可以通過控制絡(luò)合劑和還原劑的濃度改造層面、溶液體系的溫度、合理使用自動補(bǔ)加使溶液體系更加穩(wěn)定:
(1)金缸長時間加熱會導(dǎo)致還原劑的熱消耗各項要求,需要適當(dāng)補(bǔ)加大面積,但還原劑的補(bǔ)加需少量多次進(jìn)行,還原劑的過量補(bǔ)加會導(dǎo)致金的析出優勢與挑戰;
(2)金缸過高的溫度會導(dǎo)致金的析出數字化,需要嚴(yán)格監(jiān)制好金缸溫度;
(3)需要定期定量補(bǔ)加***絡(luò)合溶液中游離的金粒子緊密協作,以保證金缸溶液的穩(wěn)定提供有力支撐,抑制金鹽的分解析出。 
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